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電子ビームリソグラフィー

電子ビームリソグラフィーは、フォトリソグラフィー用のマスク製造や、半導体部品の少量生産、研究開発などに幅広く利用されています。多くの市場では、市販の電子顕微鏡を低コストのパターンジェネレータで電子ビームリソグラフィーシステムに改造することが一般的です。

しかし、大規模なパターンを描画するためには、ステッチングやパターンオーバーレイのための安定した高精度のサブステージを追加設置する必要があります。

Kleindiek社は、安定性、精度、再現性の点で競争力を維持しながら、ハイエンドのリソグラフィー用レーザーステージに代わる経済的な製品を提供しています。

 

イメージ

 


フレネルレンズの光顕微鏡像


レンズの100倍拡大写真


レンズの400倍拡大写真


レンズの3250倍拡大写真


26000倍では、200nmのステッチエラーが見られる

 

 

Kleindiek社 <マイクロマニピュレータ・サブステージ>


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